台灣美日先進光罩股份有限公司緣於「翔準先進光罩股份有限公司」與「台灣大日印光罩公司」於2014年4月4日合併後更名而生，合併後翔準先進光罩為存續公司，台灣大日印光罩則為消滅公司。 翔準先進光罩公司於1997年10月4日獲准成立進入新竹科學園區，目前於新竹及台中科學園區各有一座生產工廠，台灣大日印公司成立於2007年11月9日，在新竹科學園區設有一座生產工廠。合併後的台灣美日先進光罩將是全台灣唯一擁有三座生產工廠之光罩製造廠，以生產高層次積體電路光罩為主要目標。 本公司係結合國內各大晶圓及光罩廠傑出之專家，共同創設具有相位移光罩（Phase Shift Mask，PSM）技術之世界一流光罩公司，並將對各晶圓廠提供微影製程（photolithography），電腦模擬（computer simulation），電腦輔助設計（CAD）等技術諮詢服務，以提昇國內晶圓廠之製程技術，增強IC業者之國際競爭力。 1) 成立於86年10月, 為結合國內外一流技術人員之台灣最先進光罩製造廠 2) 以生產高層次積體電路光罩為主要經營項目。 3) 公司目標為建立量產 high-end IC 光罩能力，提昇 IC工業微影製程之技術層次, 並成為所有IC公司虛擬之光罩製作部門。